主要優(yōu)點
物理性能優(yōu)異
高硬度與抗壓性，核桃殼磨料抗壓強度達23.40kgf（粒徑1.2-1.6mm），耐磨性強，使用壽命長，適合干拋工藝。
化學穩(wěn)定性：不溶于酸堿，酸、堿溶液中損耗率低（鹽酸4.99%，氫氧化鈉3.8%）。
吸附油能力：吸附率高達27-50%， 通過粘附作用吸附拋光膏，出光效果更佳。
工業(yè)拋光領域
干拋工藝：用于眼鏡配件、珠寶首飾、電子元件、醫(yī)療器械等鏡面拋光。
粒度選擇：4mm-0.355mm（5#、6#、7#、8#、10#、12#、14#、16#、18#、20#、24#、30#、36#、46#、60#）等特定規(guī)格。
操作要點：配合拋光油（滾光油、拋光膏）使用控制拋光油用量以避免殘留或過少。
粒度要求：核桃殼研磨材料要求，顆粒圓潤飽滿，無菱角，低粉塵，無雜質。
干拋工藝特點
無污染與高 效性
干拋過程中無需水或拋光液，避免了廢水處理問題，且拋光速度快，適合批量生產(chǎn)。例如，干式溜光機通過高速旋轉拋光實現(xiàn)鏡面效果，生產(chǎn)中無粉塵外溢。
拋光用途廣泛
用于金屬（如不銹鋼、鐵、鋅合金、鋁合金）等硬質材料，尤其適合精密零件（如航空航天器件、醫(yī)療器械）和高端裝飾件（如不銹鋼雕塑、珠寶首飾）的拋光。
粉塵風險需控制：
干拋易產(chǎn)生粉塵，長期吸入可能引發(fā)呼吸道疾病，需佩戴防塵口罩、護目鏡等防護裝備。
干拋工藝流程
粗拋階段
使用粗粒度磨料（如橄欖殼磨料或核桃殼磨料6#）去除表面毛刺、氧化層，為后續(xù)拋光打基礎。常用設備為干式拋光機或高速離心機、溜光機等。
中拋階段
更換更細粒度磨料（核桃殼磨料18#），通過機械摩擦細化表面紋理。需控制機器轉速，避免劃痕或變形。
精拋鏡面處理
采用更細的核桃殼磨料（核桃殼36#）配合拋光膏，實現(xiàn)鏡面效果。拋光后需清洗殘留磨料并檢查表面粗糙度。
關鍵材料與設備
拋光膏選擇：干拋選擇膏體尤為重要，根據(jù)工件材質來選擇拋光膏，每種拋光膏對應的產(chǎn)品工件都不一樣。
設備配置：
干式溜光機、木滾筒機（帶夾具）、分格式溜光機、離心機、渦流機等。
注意事項
工藝參數(shù)控制：拋光速度過快易導致工件過熱，過慢影響效率，需根據(jù)工件材質調整。
壓力與方向保持均勻力度和一致方向，避免交叉劃痕。
質量檢測與防護：
拋光后需檢測表面光潔度（Ra值）、光澤度及尺寸精度，不合格需返工。
操作人員需定期進行職業(yè)健康檢查，防范粉塵和化學傷害。
總結
干拋工藝憑借無污染、高 效率的特點，在精密制造和高端裝飾領域優(yōu)勢顯著，但需嚴格把控粉塵防護和工藝參數(shù)。實際應用結合實際情況，場地等實現(xiàn)高效穩(wěn)定的拋光效果。
